摘要：  "第二届国际背光源技术(上海)展览会，简称「APFE2013」，是亚太地区首创背光源产业的最大规模盛会，将于2013年5月22日-24日在上海世博展览馆举办，同期与“第九届国际模切展(全球最大)”隆重开展，涉及展览总规模达18，000平方米，600多家展商预计将有来自国内外30，000人次的专业观众到场参观!

关键字：  背光源技术，光电半导体，

参展时间：0113-01-14 至 0113-01-14

周 期：一年一届

创办时间：2011

展出地点：上海世博展览馆

展馆名称：浦东新区世博馆路111号

主办单位：正亚展览机构

展出内容：

第二届国际背光源技术(上海)展览会

The 2nd International Backlight(Shanghai)Expo

展览时间：2013年5月22日至24日

展会地点：上海世博展览馆 /浦东新区世博馆路111号

主办单位：正亚展览机构

组织单位：上海富亚展览有限公司、广州正亚展览有限公司、台湾光电半导体产业协会

同期举办：第九届国际模切(上海)展览会

展会网址：blu.zyexpo.com

[亚洲唯一背光源技术展]

在显示技术不断进步的今天，巨大的LED显示市场注定将背光源行业发展成为一个庞大的产业。作为显示核心部件背光源，它的发光效果、功耗和质量将决定产品的显像效果和寿命，在以手机、 PDA 、数字相机(DSC)、汽车(显示器)、液晶显示器 、液晶电视、家用电器、灯箱广告等行业背光源获得广泛市场应用。

"第二届国际背光源技术(上海)展览会，简称「APFE2013」，是亚太地区首创背光源产业的最大规模盛会，将于2013年5月22日-24日在上海世博展览馆举办，同期与“第九届国际模切展(全球最大)”隆重开展，涉及展览总规模达18，000平方米，600多家展商预计将有来自国内外30，000人次的专业观众到场参观!

2013年5月的上海，我们盛情邀请您以参展、参观、采购、交流合作等各种形式来到[APFE2013]!

[展会背景]

上届【背光源展】已于上海世博展览馆成功举办，在全球范围为首创的背光源技术展，得到国内外背光源领域品牌企业大力支持，如英国TEKNEK、韩国树研光学、德国亚德科、美国辐深、韩国FILEMAX、PROTEM、HI-LAND、SEKISUI、FUJI SHOKO、台湾郡威、岱棱、佑顺发、豪晶、旌阳、SYSCO、东芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、德龙等上百家企业参展。展会共接待来自手机、电脑、家电、终端电子制造商、面板、背光模组、模切、材料供应商等将近20，000观众到场参观。

一、展览范围

背光源(背光模组)及相关导光板、光学膜、光源、背光组装技术、背光模组的检测仪器及检测技术、背光模组制作设备等。

二、展位规格及参展收费标准

1、国际标准展位：9m2(3m×3m)分设T 区(国际区)，A 区(国内区);

A 区：国内企业RMB 9800/展位 ：国内企业RMB 1000/m2/展期光地

T 区：国际展区USD 2000/展位 ：国际展区USD 200/m2/展期光地

[APFE2013]-联络机构：

正亚展览有限公司(背光源展始创者)

电话：021-33518235/6/7转206

传真：021-33518235/6/7转226

联系人：慕宇 15221822855

E-mail:zyexpo@vip.126.com

网址：blu.zyexpo.com